半導體尾氣排放處理是半導體工業(yè)中的一個重要環(huán)節(jié)，它能夠有效地減少半導體工業(yè)對環(huán)境的污染。而要達到這個目的，需要選擇合適的設備進行處理。那么，半導體尾氣排放處理用什么設備合適呢？

一般來說，半導體尾氣排放處理主要有兩種方式物理吸附和化學吸附。具體的設備選擇也會因為處理方式的不同而有所不同。

物理吸附常用的設備包括活性炭吸附器、分子篩吸附器等。這些設備通過吸附半導體尾氣中的污染物，達到凈化的目的。其中，活性炭吸附器具有吸附能力強、使用方便等優(yōu)點，廣泛應用于半導體尾氣處理中。

化學吸附則需要使用化學吸附劑，常用的有硝酸銅、氧化銅等?；瘜W吸附劑可以與半導體尾氣中的污染物反應，產(chǎn)生化學變化，將其轉化為無害物質。這種方式的設備通常是化學吸附器，能夠有效地凈化半導體尾氣中的污染物。

當然，在實際應用中，具體的設備選擇還需要考慮到半導體尾氣的成分、濃度、體積等因素。只有根據(jù)實際情況進行綜合考慮，才能夠選擇合適的設備進行處理。